第1153章 关键绩效方案调整

  陈默一边听，一边快速在笔记本电脑上记录要点。

  这些进展，不仅远超他之前的预期，更关键的是，它们开始触及未来晶片设计的核心挑战：

  ai驱动、不確定性建模、系统级集成。

  华兴eda，正从解决“有无问题”，迈向定义“行业標准”的阶段。

  “非常好！”陈默不吝讚扬：

  “你们用成绩证明，我们当初选择全自研、强攻ai、深耕底层模型的战略是完全正確的。

  这94%的覆盖率，含金量十足！

  那么，剩下的6%呢？

  我知道，最后的往往是最难的。”

  三位部长表情变得凝重。

  李维明代表发言：

  “剩下的，主要是两个『无人区』。一是euv光刻的逆演算法，这需要光刻机內部的光学模型和工艺数据，我们被完全隔离在外。

  二是量子晶片eda工具的预先研究，这属於前沿探索，投入巨大且短期看不到商业回报。”

  陈默沉吟片刻，说道：

  “euv部分，联合国內光刻机研发单位，成立联合攻关小组，经费我来批。