第530章 再见张如晶
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  “第二项呢？”
  “第二项是专利风险审查。”
  肖光楠往前坐了坐，语气变得更加谨慎。
  “这个花的时间最长。我亲自带队，把我们从设计到生產的每一个环节都过了一遍。所有涉及的技术、设备、材料、软体，逐一比对了台积电的公开专利库和已知的商业秘密清单。”
  他顿了一下。
  “发现了三处存在潜在风险的地方。一处是我们早期从外部採购的一套光刻胶涂布工艺方案，供应商的技术来源不够清晰。第二处是一个蚀刻工序中使用的参数组合，与台积电的一项专利存在部分重叠。第三处是我们的一名工程师在此前撰写的內部技术备忘录中，引用了一篇台积电发表的学术论文中的数据作为参考基准。”
  马宇腾的手指停在报告的某一页上。
  “处理了没有？”
  “全部处理完毕。”
  肖光楠的回答乾脆利落。
  “光刻胶涂布方案已经替换成我们自主研发的版本。蚀刻参数做了重新优化，绕开了台积电的专利范围。那份技术备忘录已经从內部系统中刪除，相关工程师也做了书面培训和警示。”
  他合上文件夹。
  “目前雷霆晶片的整条生產线上，不存在任何可以被台积电利用的专利漏洞。”
  马宇腾放下报告，靠回椅背。
  他看了肖光楠一眼。