第216章 试產线出现铜污染隱患
读一本书，过一段人生。
  深度清洗后的国產高纯硅片试產线重新启动。巨大的白色机箱发出低沉的嗡鸣，监控屏幕上数据流开始滚动：温度22.1c，湿度39%，超纯水电阻率18.2兆欧·厘米，铜离子浓度0.03ppt，低於警戒值两个数量级。
  张京京站在中央控制台前，双手抱胸，紧盯著十二块分屏上的实时参数。他身后的工程师团队鸦雀无声，所有人都知道这次重启的意义：如果清洗成功，意味著他们掌握了应对铜污染的关键技术，国產硅片的量產之路就迈过了最危险的坎；如果失败……
  “第一批硅片开始清洗工序。”操作员报告，声音在寂静的控制室里显得格外清晰。
  屏幕上，机械臂將三片十二英寸的测试用硅片送入清洗槽。超纯水以精確控制的流速冲刷著硅片表面，超声波发生器启动，发出人耳听不见的高频振动。
  “清洗液流量稳定，超声功率正常，温控在设定值±0.1c范围內。”
  张京京的目光锁定在铜离子监测曲线上。那条绿色的线平稳得近乎完美，在0.02到0.04ppt之间轻微波动，这是环境本底水平，说明系统是乾净的。
  清洗持续了十五分钟。按照吴文山提供的方案，这是第一步“螯合剂冲洗”的时间。
  “清洗结束，开始纯水漂洗。”
  硅片被转移到漂洗槽，更高纯度的水流洗去残留的化学药剂。这是最危险的环节：如果系统里还有铜污染源，漂洗过程会將其暴露无遗。
  时间一秒一秒过去。
  控制室里只有设备运行的嗡鸣和偶尔的按键声。
  “漂洗三分钟，铜离子浓度0.05ppt。”
  “漂洗五分钟，铜离子浓度0.07ppt。”
  “漂洗七分钟，铜离子浓度0.11ppt。”
  数据在缓慢上升，但仍在安全范围內。张京京微微鬆了口气。按照经验，如果有污染，前五分钟就会急剧飆升。