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第155章 林薇发现硅片清洗新工艺

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  “没错!”

  林薇讚许地点头,

  “我怀疑,我们传统的、追求『绝对洁净』的强力清洗方案,在去除污染的同时,可能也对细微的图形结构造成了不可见的损伤或改变,这种损伤在后续苛刻的刻蚀和离子注入过程中会被放大。而c-37,或许找到了一种『选择性清洗』或者『界面修饰』的路径。”

  她立刻下达指令:

  “孙博士,你带领团队,立刻围绕c-37配方的基础成分,设计一个全新的、系统性的实验矩阵。不要只看颗粒和宏观良率,要把重点放在不同图形尺寸、不同图形密度下的线宽变化、边缘粗糙度、以及界面態密度这些微观参数上。老周,你协调前后道工艺,確保测试晶圆能贯穿整个製程,我们需要最终的电性参数来验证。”

  一场静悄悄的、但目標明確的“微雕”战役,在清洗实验室里打响了。孙浩团队按照林薇指引的新方向,调整了数十种配方参数:ph值的微调、添加剂浓度的精確控制、清洗时间的分秒级变化、乃至清洗时兆声波的能量和频率……

  每一个变量都被精细操控,试图捕捉到那个能完美“呵护”图形结构的魔法组合。

  林薇几乎每天都泡在实验室里。她穿著洁净服,和孙浩等人一起分析数据,討论机理。

  有时她会抱著已经会咿呀学语的小芯,在实验室外的监控室里,透过玻璃墙看著里面的忙碌。

  小芯挥舞著小手,对著里面闪烁的指示灯和穿著“奇怪”衣服的叔叔阿姨咯咯直笑。这一刻,科技攻坚与生命成长,以一种奇妙的方式交织在一起。

  过程並非一帆风顺。大部分实验配方效果甚至不如传统方案,有些还引入了新的问题。

  质疑的声音偶尔也会出现:在光刻机这种“心臟”级装备被卡脖子的时候,投入如此多精力去研究“洗脸”的学问,是否值得?

  但林薇顶住了压力。她坚信,在极限工艺下,任何一个环节的微小优化,都可能带来系统性的突破。

  她从星流屏幕的精细化製造经验中汲取灵感,认为晶片製造本质上也是一种极致的“微纳结构”製造,对界面和表面的控制至关重要。

  转机发生在一个周五的深夜。孙浩盯著最新一轮实验的数据屏幕,眼睛因为长时间聚焦而布满血丝,但瞳孔中却闪烁著难以置信的光芒。

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